據(jù)麥姆斯咨詢報道，為MEMS、納米技術(shù)和半導體市場提供晶圓鍵合及光刻設備的供應商EV集團（以下簡稱EVG）于近日宣布，在晶圓級光學元件（WLO）領(lǐng)域與工業(yè)高科技粘合劑制造商DELO展開合作。兩家公司均在光學傳感器制造領(lǐng)域聞名遐邇，兩者的合作將共同致力于利用EVG透鏡注塑成型和納米壓印光刻（以下簡稱NIL）設備以及DELO先進的粘合劑和抗蝕材料，實現(xiàn)工業(yè)、汽車和消費電子等領(lǐng)域的生物識別、人臉識別等新型光學器件及應用。 EVG的NILPhotonics技術(shù)中心位于其總部——奧地利St. Florian，DELO總部位于德國Windach，兩家公司共同開展的合作將有助于改善并加快材料的開發(fā)周期。EVG的NILPhotonics技術(shù)中心將為NIL供應鏈中的客戶和合作伙伴提供開放式創(chuàng)新孵化器，以合作的方式來縮短創(chuàng)新器件及應用的開發(fā)周期和上市時間。其基礎設施包含最先進的潔凈室和設備，以支持如步進式重復曝光、透鏡成型和SmartNIL技術(shù)等NIL制造的關(guān)鍵步驟，以及晶圓鍵合和相關(guān)測量步驟。這為晶圓級光學元件的開發(fā)、原型設計和制造獲取最新的技術(shù)和材料提供了一種獨特的方式。 11月12日至15日在德國慕尼黑舉行的SEMICON Europa展會上，兩家公司高管討論了最新的聯(lián)合開發(fā)項目。 供應鏈協(xié)作，共同推動晶圓級光學元件的應用 先進的粘合劑和抗蝕劑在下一代光學傳感器的大規(guī)模晶圓級制造中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。先進光學材料的開發(fā)需要進行大量的化學、機械和光學特性的表征，以及可大規(guī)模制造（以下簡稱HVM）的事實證明。如果想要使用已驗證的HVM工藝，以最小的形狀因子達到最佳的晶圓級光學元件性能，那么自動成型和脫膜工藝所需的材料專業(yè)知識以及在NIL圖形壓印和抗蝕工藝的卓越兼容性尤其重要。 為高質(zhì)量產(chǎn)品提供高可靠性和具有制造可行性的晶圓級光學元件，需保證工藝開發(fā)和改進滿足要求，那么供應商與工藝設備制造商之間的密切合作顯得尤為重要。EVG與DELO的聯(lián)合發(fā)力將支持兩家公司改進其工藝和產(chǎn)品，同時還加強了各自的專業(yè)技術(shù)，以滿足當前和未來的市場需求。該合作伙伴關(guān)系還將提供成熟的材料和工藝專業(yè)技術(shù)，以加快新產(chǎn)品設計和原型設計，同時還為雙方客戶的發(fā)展規(guī)劃保駕護航。 “NIL Photonics技術(shù)中心以獨特的方式解決了行業(yè)對新方法的需求，實現(xiàn)產(chǎn)品的快速開發(fā)上市，并保證高度機密性，”EVG企業(yè)技術(shù)開發(fā)和知識產(chǎn)權(quán)總監(jiān)Markus Wimplinger說道。“通過與DELO等供應鏈關(guān)鍵企業(yè)建立合作，我們作為工藝和設備專家密切合作的核心，能夠更高效地幫助新生產(chǎn)線開發(fā)和確認關(guān)鍵制造步驟?！?“EVG和DELO分別在晶圓級光學元件和NIL設備、光學材料市場中享有盛譽，在將這些技術(shù)和工藝應用于大規(guī)模生產(chǎn)方面的可靠性已有數(shù)據(jù)證明，”DELO總經(jīng)理Robert Saller表示?！昂献髦?，我們將提供自己獨特的技術(shù)，將晶圓級工藝技術(shù)應用于光學器件和光電器件制造中，使EVG成為我們最新產(chǎn)品開發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應用專家和優(yōu)質(zhì)合作伙伴的身份為客戶服務?！?晶圓級光學元件的應用與解決方案 EVG的晶圓級光學元件制造解決方案為移動消費電子產(chǎn)品提供了眾多新穎的光學傳感器件。關(guān)鍵案例包括3D傳感、飛行時間（ToF）、結(jié)構(gòu)光、生物識別、人臉識別、虹膜掃描、光學指紋、光譜傳感、環(huán)境傳感和紅外成像。其它應用還包括汽車照明、發(fā)光地毯、抬頭顯示、車內(nèi)傳感和激光雷達，以及用于內(nèi)窺鏡相機、眼科應用和外科機器人的醫(yī)學成像。EVG的晶圓級光學元件解決方案由公司的NIL Photonics技術(shù)中心支持。 DELO的創(chuàng)新型多功能材料應用于全球各地的智能手機。該公司的高科技粘合劑以功能性和可靠性著稱。根據(jù)客戶額外的特殊需求，在需要對微型元件進行鍵合的短周期工業(yè)環(huán)境中，這些聚合物材料是理想選擇。此外，DELO的紫外LED固化設備和分配閥可提供卓越的可靠性。